公司名称:盛美半导体设备(上海)股份有限公司 | 所属地域:上海市 | |
英文名称:Acm Research (Shanghai), Inc. | 所属申万行业:电子 — 半导体 | |
曾 用 名:- | 公司网址: www.acmrcsh.com.cn |
主营业务: 对集成电路制造行业至关重要的半导体清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备、后道先进封装设备以及硅材料衬底制造工艺设备等的开发、制造和销售。 | ||
产品名称: 清洗设备 、半导体电镀设备 、立式炉管系列设备 、涂胶显影Track设备 、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备 、无应力抛光设备 、后道先进封装工艺设备 、硅材料衬底制造工艺设备 |
控股股东:
ACM RESEARCH,INC. (持有盛美半导体设备(上海)股份有限公司股份比例:82.09%)
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实际控制人:
HUI WANG (持有盛美半导体设备(上海)股份有限公司股份比例:5.36%)
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最终控制人:
HUI WANG (持有盛美半导体设备(上海)股份有限公司股份比例:5.36%)
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董事长: HUI WANG | 董 秘: 罗明珠 | 法人代表: HUI WANG |
总 经 理: 王坚 | 注册资金: 4.36亿元 | 员工人数: 1578 |
电 话: 86-021-50276506 | 传 真: 86-021-50808860 | 邮 编: 201203 |
办公地址: 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢 | ||
公司简介:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司主营业务是对集成电路制造行业至关重要的半导体清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备、后道先进封装设备以及硅材料衬底制造工艺设备等的开发、制造和销售。公司的主要产品及服务为清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备、后道先进封装工艺设备、硅材料衬底制造工艺设备。公司连续多年被评为“中国半导体设备五强企业”,入选首批上海市科学技术委员会颁发的“上海市集成电路先进湿法工艺设备重点实验室”。报告期内被认定为...查看全部▼ 盛美半导体设备(上海)股份有限公司主营业务是对集成电路制造行业至关重要的半导体清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备、后道先进封装设备以及硅材料衬底制造工艺设备等的开发、制造和销售。公司的主要产品及服务为清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备、后道先进封装工艺设备、硅材料衬底制造工艺设备。公司连续多年被评为“中国半导体设备五强企业”,入选首批上海市科学技术委员会颁发的“上海市集成电路先进湿法工艺设备重点实验室”。报告期内被认定为国家级“专精特新小巨人企业”、上海市企业技术中心;获得ISO 14001环境管理体系认证和ISO 45001职业健康安全管理体系认证;荣获浦东新区川沙新镇人民政府“2022年度公益慈善奖”、张江镇2022年度企业安全生产工作先进单位、上海市集成电路行业协会颁发“2022年度上海市集成电路内资半导体设备业销售前五名”等荣誉。收起▲ |
序号 | 姓名 | 职务 | 直接持股数 | 间接持股数 | 序号 | 姓名 | 职务 | 直接持股数 | 间接持股数 |
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1 | HUI WANG | 董事长,董事 |
26.14万
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2311万(估)
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2 | 王坚 | 董事 |
21.1万
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3 | HAIPING DUN | 董事 |
0
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4 | STEPHEN SUN-HAI CHIAO | 董事 |
0
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5 | 罗千里 | 董事 |
0
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6 | 李江 | 董事 |
0
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7 | 黄晨 | 董事 |
0
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8 | ZHANBING REN | 独立董事 |
0
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9 | 张荻 | 独立董事 |
0
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10 | 彭明秀 | 独立董事 |
0
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11 | 张苏彤 | 独立董事 |
0
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注:点击高管姓名查看高管简历介绍
成立日期:2005-05-17 | 发行数量:4335.58万股 | 发行价格:85.00元 |
上市日期:2021-11-18 | 发行市盈率:398.6700倍 | 预计募资:18亿元 |
首日开盘价:122.00元 | 发行中签率: 0.04% | 实际募资:36.85亿元 |
主承销商:海通证券股份有限公司
上市保荐人:海通证券股份有限公司
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历史沿革:
(一)有限公司设立情况
(一)有限公司设立情况
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